CtrlAltDelCity

На Пикабу
121 рейтинг 0 подписчиков 0 подписок 6 постов 0 в горячем
6

Парадокс суб-2нм

Термин "Парадокс суб-2нм" (англ. The Sub-2nm Paradox) возник в технических сообществах - в первую очередь на Reddit (r/AskEngineers) - как обозначение фундаментального противоречия, с которым столкнулась полупроводниковая индустрия на рубеже 2020-х годов.

Суть парадокса

С одной стороны, компании - TSMC, Samsung, Intel, IBM - демонстрируют прорывные результаты в производстве чипов "2-нанометрового" и даже "1.8-нанометрового" уровня. С другой стороны, ни один физический размер транзистора на этих чипах не равен 2 нанометрам.

По данным IEEE IRDS 2021, "2,1-нанометровый" техпроцесс характеризуется:

  • Шаг затвора (contacted gate pitch): 45 нм

  • Шаг металлизации (metal pitch): 20 нм

То есть маркетинговое "2нм" соответствует реальному шагу металлизации в 20 нм - в десять раз больше. Это и есть ядро "парадокса":

"2 нм используется преимущественно как маркетинговый термин для обозначения нового поколения чипов с увеличенной плотностью транзисторов, скоростью и сниженным энергопотреблением" - Wikipedia, "2 nm process".

1. Исторический контекст: Умирание закона Мура

Закон Мура, сформулированный Гордоном Муром в 1965 году, предсказывал удвоение числа транзисторов на кристалле примерно каждые два года. За 60 лет полупроводниковая индустрия прошла путь от 20-микрометрового процесса (1968) до 3-нанометрового (2022) и "2нм" (2025).

Изображение MOSFET-кристалла. Источник: Wikimedia Commons (CC BY-SA 4.0)

Изображение MOSFET-кристалла. Источник: Wikimedia Commons (CC BY-SA 4.0)

На техпроцессах меньше 7 нм традиционное масштабирование перестало приносить ожидаемые выгоды. Каждый шаг даётся ценой экспоненциально растущих затрат.

2. Архитектура транзисторов: от FinFET к GAAFET

Главный технологический "движок" суб-2нм эпохи - переход от FinFET к GAAFET (Gate-All-Around Field-Effect Transistor).

FinFET (2011–2022)

Трёхмерный транзистор с "плавником" (fin) - каналом, обведённым затвором с трёх сторон. FinFET работал вплоть до 3-нанометрового техпроцесса (TSMC N3E, Samsung 3GAP).

GAAFET / Nanosheet (2025+)

В GAAFET затвор полностью окружает канал - горизонтальные нанолисты (nanosheets) расположены друг над другом. Это обеспечивает лучший электростатический контроль и снижает утечки.

IBM 2-нанометровая пластина - первый в мире чип 2-нм техпроцесса. Фото: IBM, через IEEE Spectrum

IBM 2-нанометровая пластина - первый в мире чип 2-нм техпроцесса. Фото: IBM, через IEEE Spectrum

IEEE Spectrum, 6 мая 2021: IBM представила первый в мире чип 2-нм техпроцесса, используя нанолистовую технологию с тремя слоями кремниевых нанолистов и длиной затвора 12 нм. Чип обеспечивает +45% производительности при том же энергопотреблении против 7-нм чипов, либо -75% энергопотребления при той же производительности.

3. Гонка производителей: TSMC, Samsung, Intel, Rapidus

TSMC N2 - первый GAAFET

Tom's Hardware, 29 декабря 2025: TSMC начала серийное производство чипов N2 в 4-м квартале 2025 года. Узел обеспечивает:

  • +10–15% производительности при том же энергопотреблении (vs N3E)

  • -25–30% энергопотребления при той же производительности

  • +15% плотности транзисторов (mixed design)

TSMC использует первую в своей истории GAAFET-архитектуру и супер-ёмкие SHPMIM-конденсаторы (вдвое большая ёмкость на единицу площади). Производство запущено на новом Fab 22 в районе Каосюна.

Intel 18A (1,8 нм)

Intel не стала делать "2нм" в привычном понимании, а пошла на 18A = 18 ангстрем (1,8 нм). Узел включает две инновации:

  • RibbonFET - собственная версия GAAFET

  • PowerVia - подвод питания через заднюю сторону пластины (Backside Power Delivery)

Tom's Hardware, 1 апреля 2025: Intel объявила о начале рискового производства 18A. Узел на 30% плотнее и на 15% энергоэффективнее Intel 3.

TSMC Fab 22 - производство 2нм чипов. Фото: TSMC / Tom's Hardware

TSMC Fab 22 - производство 2нм чипов. Фото: TSMC / Tom's Hardware

Rapidus - японская инициатива

Консорциум японских компаний, созданный при поддержке правительства. В 2022 году подписал соглашения с IMEC и IBM. В 2025 году объявил о начале пробного производства 2нм GAAFET на фабрике IIM-1.

4. Квантовый барьер: почему миниатюризация упирается в предел

На масштабе менее 2 нм в игру вступают квантово-механические эффекты, которые принципиально ограничивают дальнейшее масштабирование.

Туннелирование

Когда толщина оксидного слоя затвора становится сравнима с длиной волны электрона (~0,5 нм), электроны начинают туннелировать через потенциальный барьер. Это вызывает паразитные токи утечки даже в выключенном состоянии транзистора.

Флуктуация легирования (Dopant fluctuation)

При размере транзистора менее 5 нм в активном регионе содержатся считанные десятки атомов легирующей примеси. Один "не тот" атом может изменить пороговое напряжение на вольты.

Размытие канала

В FinFET при масштабе менее 7 нм канал становится настолько тонким, что электроны "протекают" через него даже при закрытом затворе. Именно поэтому FinFET утратил актуальность.

5. Литография: EUV и High-NA EUV

Ключевое оборудование суб-2нм производства - экстремальная ультрафиолетовая литография (EUV, λ = 13,5 нм).

2018 - TSMC 7нм: первое массовое производство с EUV (ASML NXE:3100)

2021 - IBM 2нм: EUV-паттернинг применён к FEOL (Front-End-Of-Line)

2024 - Первая установка High-NA EUV (ASML NXE:2000) установлена на предприятии Intel

2025–2027 - High-NA EUV для 1нм и суб-1нм техпроцессов

High-NA EUV (Numerical Aperture = 0,55 вместо 0,33) обеспечивает разрешение ~8 нм - необходимое для 1-нанометрового и далее 0,5-нанометрового техпроцессов. Стоимость каждой установки - около $400 млн.

6. За пределами 2нм: дорожная карта IMEC до 2036

IMEC представила дорожную карту, расширяющую двухлетний ритм смены техпроцессов до 2036 года, с конечной точкой "A2" - 2 ангстрема (0,2 нм). Ключевые инновации:

  • CFET (Complementary FET) - вертикально уложенные друг на друга nFET и pFET

  • 2D-материалы - монослои WS₂ (дисульфид вольфрама) как канал транзистора

  • Рутений для металлизации (вместо меди) - лучшее сопротивление на наноуровне

  • Графен для межсоединений

  • Воздушные зазоры (air gaps) для снижения диэлектрической проницаемости

  • Вычитающая металлизация (subtractive metallization)

  • 2.5D чиплеты и 3D-межсоединения

Tom's Hardware, 21 мая 2022: "Imec представляет дорожную карту суб-1нм процесса и транзисторов до 2036 года".

CFET - следующий шаг после GAAFET

В 2023 году Intel, Samsung и TSMC продемонстрировали CFET-транзисторы - два горизонтальных нанолиста, расположенных вертикально друг над другом: p-тип сверху, n-тип снизу. Это удваивает плотность транзисторов без уменьшения площади.

7. Экономика парадокса: стоимость и доступность

Стоимость перехода на новые техпроцессы (оценки)

  • 7 нм: ~$5–10 млрд для фабрики

  • 5 нм: ~$10–15 млрд

  • 3 нм: ~$20 млрд

  • 2 нм: ~$20–25 млрд (TSMC Fab 20 + Fab 22)

  • High-NA EUV станок: ~$400 млн каждый

8. Выводы: парадокс и его разрешение

"Парадокс суб-2нм" - это не столько техническая проблема, сколько философский вызов. Он обнажает разрыв между:

  1. Маркетингом (техпроцессы называются по вымышленным "нанометрам")

  2. Физикой (реальные размеры в 10 раз больше маркетинговых)

  3. Экономикой (экспоненциальный рост стоимости каждого шага)

  4. Квантовой механикой (фундаментальный предел миниатюризации)

Индустрия находит ответы на каждый из этих вызовов:

  • GAAFET - новый тип транзисторов

  • High-NA EUV - новая литография

  • Backside power delivery - новая архитектура питания

  • 2.5D/3D чиплеты - новый подход к интеграции

  • 2D-материалы, CFET, молекулярные транзисторы - будущее после 2030

По оценкам IBM, замена серверов всех дата-центров мира на 2нм-процессоры сэкономила бы достаточно энергии для питания 43 миллионов домов. А зарядка смартфона потребовалась бы раз в 3–4 дня вместо каждого дня.

Парадокс суб-2нм - не тупик. Это поворотный пункт, после которого эра "просто уменьшать транзисторы" заканчивается, и начинается эра системной инженерии на атомарном уровне.

Источники и первоисточники

Показать полностью 4
13

Китай обходит санкции: LineShine — CPU-only суперкомпьютер на 1,54 EFLOPS

Результат, который меняет правила

В мае 2026 года китайский Национальный центр суперкомпьютинга (NSCC) в Шэньчжэне опубликовал данные, способные перекроить представление о вычислительной инфраструктуре для искусственного интеллекта. Суперкомпьютер LineShine показал 1,54 экзафлопс (BF16) при обучении ИИ-моделей — и он не использует ни одного GPU.

Полностью CPU-only архитектура на базе процессоров LX2 с архитектурой Armv9, предположительно разработанных Huawei, — это прямой ответ на американские санкции, запрещающие поставку передовых графических процессоров в Китай.

Подавляющее большинство ведущих суперкомпьютеров мира и AI-кластеров строится по гибридной схеме: CPU для оркестрации, GPU — для параллельных вычислений. Nvidia A100, H100 и их аналоги стали индустриальным стандартом. Но санкции 2019–2023 годов отрезали Китай от передовых чипов. Ответ оказался радикальным: вместо поиска GPU — масштабирование CPU до экзафлопсового уровня.

Архитектура суперкомпьютера LineShine — NSCC Shenzhen, 2026

Архитектура суперкомпьютера LineShine — NSCC Shenzhen, 2026

  • Май 2019 Включение Huawei в Entity List — запрет на экспорт технологий США

  • Октябрь 2022 Ограничения на GPU с производительностью >480 GFLOPS (INT8) — A100 и H100 запрещены в Китае

  • Октябрь 2023 Расширение ограничений: даже «упрощённые» H20, L20, L40s под угрозой

  • Май 2026 LineShine демонстрирует 1,54 EFLOPS — CPU-only, без GPU, без Nvidia

Ключевые характеристики

  • Архитектура процессора: Armv9, 2 чиплета на LX2

  • Ядра на процессор: 304 (8 кластеров × 38 ядер)

  • Векторные/матричные расширения: SVE + SME (Scalable Matrix Extension)

  • Поддерживаемые форматы: FP64, FP32, BF16, FP16, INT8HBM (в-package)32 ГБ, до 4 ТБ/с (4 HBM-домена на чиплет)

  • Внешняя память: DDR5 (вне кристалла)до 256 ГБ NUMA-домены16 на процессор

  • Интерконнект: LingQi (LQLink), 1,6 Тбит/с на узел

  • Охлаждение: Жидкостное

Преимущества и недостатки CPU-only

Преимущества

  • Нет передач данных CPU↔GPU — единое адресное пространство

  • Огромные когерентные пулы памяти (HBM + DDR5)

  • Естественная интеграция с традиционными HPC-задачами

  • Независимость от CUDA и зарубежных акселераторов

  • Идеально для workload со сложным control flow

  • Поддержка RAG и длинных контекстных окон

Ниже энергоэффективность (TFLOPS/Watt) vs GPU

  • FLOPS utilization ~15% (против 40 - 60% у GPU-кластеров)

  • Огромная сложность масштабирования 40 960 процессоров

  • Топологически-ориентированное размещение памяти

  • Co-design ядер — дополнительная сложность Software/Hardware

  • Ограниченная доступность процессоров Huawei

Ключевой вывод

LineShine не замена GPU-кластерам. Это доказательство концепции: при достаточном масштабе (2,4 млн ядер), продвинутой архитектуре (Armv9 + SVE + SME) и глубокой оптимизации стека процессоры могут стать жизнеспособной альтернативой для определённого класса AI-задач.

Китай не смог получить доступ к Nvidia и создал собственную экосистему. Вопрос не в том, лучше или хуже LineShine по сравнению с El Capitan. Вопрос в том, что теперь у Китая есть независимый путь к экpафлопсовым ИИ-вычислениям — и этот путь будет только расширяться.

Сравнение sustained-производительности ведущих суперкомпьютеров мира. Lingshen — заявленная цель >2 EFLOPS

Сравнение sustained-производительности ведущих суперкомпьютеров мира. Lingshen — заявленная цель >2 EFLOPS

Показать полностью 3
2

Универсальный манипулятор-кисть XHand - показаны возможности применения в реальной жизни

PNDbotics XHand — полноценная гуманоидная кисть с 12 степенями свободы, разработанная для задач c применением ИИ. Встроенные сенсорные датчики на кончиках всех пяти пальцев обеспечивают тактильное восприятие и точность управления. В то же время кисть способна развивать усилие до 80Нм.

Кисть является частью более широкой экосистемы PNDbotics, включающей гуманоидных роботов, двуруких манипуляторов, системы телеуправления (Noitom, Meta Quest 3, PICO 4 Ultra), библиотеки обучения с подкреплением (Reinforcement Learning) и SDK на Python/C++.

Показать полностью

Clicks Communicator - новый "телефон для телефона" за $500

Что говорят обозреватели

The Verge

Редактор The Verge отмечает эргономичный дизайн и концепцию «companion device» - Communicator можно использовать как отдельный телефон или как второй экран для сообщений и почты, привязанный к основному смартфону.

TechCrunch (Hands-On)

Обозреватель TechCrunch подчёркивает качество набора текста и концепцию Signal LED/Prompt Key - настраиваемую боковую кнопку с LED-уведомлениями для конкретных контактов или приложений.

Android Authority

Android Authority отмечает, что за $499 Communicator предлагает удивительно богатый набор функций для компаньон-устройства - здесь есть NFC, OIS, 5G и Qi2.

CNET

CNET выделяет партнёрство с Niagara Launcher - минималистичный интерфейс с фокусом на сообщениях и уведомлениях, без иконок соцсетей и приложений для скроллинга.

PCMag

PCMag обращает внимание на сменные крышки (10 вариантов) и возможность кастомизации: от цвета корпуса до раскладки клавиатуры (QWERTY, AZERTY, QWERTZ, Korean, Arabic).

Ключевые характеристики

  • Процессор: MediaTek Dimensity 8300 (4 нм) + 8 ГБ ОЗУ

  • Дисплей: 4.03" AMOLED, 1080×1200 (~375 ppi)

  • Клавиатура: Сенсорная физическая QWERTY, тачпад-скролл

  • Аккумулятор: 4 000 мАч (кремний-углеродная технология)

  • Камера задняя: 50 МП с OIS и EIS

  • Камера передняя: 24 МП (hole-punch)

  • Хранилище: 256 ГБ + microSD до 2 ТБ

  • OS: Android 16 → до Android 20 (4 мажорных обновления)

  • Коммуникации: 5G (глобальный), NFC, BT 5.4, Wi-Fi 6

  • SIM: NanoSIM + eSIM (Dual SIM Active)

  • Разъёмы: USB-C, 3.5 мм аудио

  • Зарядка: 18 Вт проводная, Qi2/MagSafe 15 Вт

  • Биометрия: Сканер отпечатка в пробельной клавише

  • Килл-свитч: Физический авиарежим (переключатель)

  • Размеры: 130.5 × 78.63 × 12 мм, 170 г

  • Цвета: Smoke (белый), Clover (оливковый), Onyx (чёрный)

  • Сменные крышки: 10 вариантов (Blue, Pink, Dune, Orange, Plum, Leather…)

  • Цена: На момент анонса $499 (+$30 доставка)


Источники:

https://www.theverge.com/tech/851298/clicks-communicator-pho...
https://techcrunch.com/2026/01/02/clicks-debuts-its-own-take...
https://www.cnet.com/tech/mobile/clicks-communicator-smartph...
https://www.androidauthority.com/clicks-communicator-phone-3...

Показать полностью 5
1

Лазерная спинтронная память в 1000 раз быстрее DRAM

Лазерная спинтронная память  в 1000 раз быстрее DRAM

20 мая 2026 года исследователи Токийского университета опубликовали демонстрацию энергонезависимого магнитного переключающего устройства, способного менять состояние всего за 40 пикосекунд - примерно в 1000 раз быстрее современных DRAM-чипов. При этом устройство выделяет почти нулевое тепло.

Прорыв основан на антиферромагнетике Mn₃Sn (марганец-олово) и эффекте спиновом SOT эффекте (спин-орбитальный вращательный момент) - передаче углового момента непосредственно в магнитную структуру без нагрева. Разработчики также продемонстрировали переключение с помощью лазерного излучения телеком-диапазона, что открывает путь к оптическим межсоединениям в оптоэлектронике.

Ключевые характеристики устройства

Материал - Mn₃Sn (антиферромагнетик) на кремниевой подложке
Скорость переключения - 40 пс (электрически) / 60 пс (лазером)
Сравнение с DRAM ~1000× быстрее (наносекунды vs пикосекунды)
Тип памяти - Энергонезависимая (non-volatile)
Механизм - SOT эффект
Состояние - Экспериментальный прототип
Ограничения - Требует внешнего магнитного поля для детерминированного переключения
Разработчик - Токийский университет

Что говорят обозреватели

"The team's device reportedly achieved switching in just 40 picoseconds — roughly 1,000 times faster than typical nanosecond-scale memory switching. Normally, pushing switching speeds into the picosecond regime causes heat generation to spike dramatically, as systems often rely partly on intense transient heating to destabilize states quickly enough for reversal. However, simulations in one device configuration showed temperature rises of only about 8 K during switching."

-- Tom's Hardware — Etiido Uko (оригинал)

Автор подробно объясняет контекст «universal memory» - поиска технологии, объединяющей скорость SRAM, плотность DRAM и энергонезависимость flash. Отмечает, что современные AI-акселераторы тратят много энергии на перемещение и обновление данных между кэшами, памятью и хранилищем - и новая технология нацелена именно на это узкое место.

"The researchers built the device using an antiferromagnetic material called manganese-tin (Mn₃Sn), then showed that ultrashort electrical pulses could reliably switch its magnetic state while retaining the stored information after power removal. They also demonstrated similar switching using ultrafast photocurrent pulses generated from a telecom-band laser and photodiode, effectively converting optical signals directly into memory-writing electrical pulses."

-- CST Inc / SimmTester — DocMemory (перепечатка)

Публикация в индустриальном дайджесте по памяти подчёркивает: демонстрация может согласовываться с усилиями по переходу на кремниевую фотонику - передачу данных светом вместо электрических сигналов.

"Researchers built a switch 1,000 times faster than today's AI chips, and it barely generates any heat. University of Tokyo's antiferromagnetic spintronic switch..."

-- TechSpot

TechSpot акцентирует внимание на AI-применении: современные GPU-кластеры упираются в лимиты охлаждения и энергопотребления. Новый подход может радикально снизить накладные расходы на охлаждение дата-центров.

Реакция сообщества

В комментариях к статье на Tom's Hardware и на Reddit, исходный пост настроения скептические, но не без оптимизма:

  • Скептики: Ещё одна технология, о которой мы больше никогда не услышим - как сотни других прорывов за последнее десятилетие.

  • Оптимисты: Индустрия отчаянно ищет альтернативы DRAM и NAND. Даже если эта конкретная разработка не взлетит, направление на антиферромагнетиках и SOT верное.

  • Прагматики: Даже если время хранения данных короткое, но энергопотребление радикально ниже — она может заменить DRAM в дата-центрах, где охлаждение - главный лимитирующий фактор.

Источник: https://www.tomshardware.com/pc-components/storage/laser-dri...

Показать полностью
0

SmartBay: робот меняет шины быстрее человека, не снимая колесо

Бостонский стартап Automated Tire представил SmartBay - ИИ-платформу для замены шин без снятия колеса. Робот демонтирует покрышку прямо с диска, не трогая гайки и датчики TPMS. Комплект из четырёх шин меняется за 45 минут - вдвое быстрее человека, а один техник управляет тремя боксами (до 24 шин в час). Система использует компьютерное зрение для адаптации к разным автомобилям, выполняет балансировку всего узла и диагностику тормозов.

Аренда - $4,900 в месяц. ATI утверждает, что это дешевле найма сотрудника с учётом страховки и текучки. Однако эксперты напоминают о банкротстве предшественника RoboTire в 2024 году: до полной замены человека роботу ещё далеко, оператор по-прежнему нужен для подачи шин и подключения воздуха.

Источник: https://robophil.com/smartbays-automated-tire-change-robot/

Показать полностью
Отличная работа, все прочитано!

Темы

Политика

Теги

Популярные авторы

Сообщества

18+

Теги

Популярные авторы

Сообщества

Игры

Теги

Популярные авторы

Сообщества

Юмор

Теги

Популярные авторы

Сообщества

Отношения

Теги

Популярные авторы

Сообщества

Здоровье

Теги

Популярные авторы

Сообщества

Путешествия

Теги

Популярные авторы

Сообщества

Спорт

Теги

Популярные авторы

Сообщества

Хобби

Теги

Популярные авторы

Сообщества

Сервис

Теги

Популярные авторы

Сообщества

Природа

Теги

Популярные авторы

Сообщества

Бизнес

Теги

Популярные авторы

Сообщества

Транспорт

Теги

Популярные авторы

Сообщества

Общение

Теги

Популярные авторы

Сообщества

Юриспруденция

Теги

Популярные авторы

Сообщества

Наука

Теги

Популярные авторы

Сообщества

IT

Теги

Популярные авторы

Сообщества

Животные

Теги

Популярные авторы

Сообщества

Кино и сериалы

Теги

Популярные авторы

Сообщества

Экономика

Теги

Популярные авторы

Сообщества

Кулинария

Теги

Популярные авторы

Сообщества

История

Теги

Популярные авторы

Сообщества