Компания ASML — почти монополист на рынке литографического оборудования для выпуска полупроводников. И вот, японский производитель Canon намеревается потягаться с ней. Завод для выпуска нового литографического оборудования построят в Японии. Предполагаемые инвестиции составят 345 миллионов долларов, а производство запустят уже весной 2025 года.
Важно отметить, что для производства там будут использовать технологию, которая названа нанопечатной литографией. Она позволяет обойтись без EUV-литографии (литография в глубоком ультрафиолете), которая требует много энергии и дорого стоит. Машины для формирования схем с помощью EUV-литографии производит только ASML.
Новая технология Canon удешевит производство за счёт того, что нанопечатная литография позволяет снизить стоимость производства до 40% и энергопотребление до 90%.
Отметим, что технология нанопечатной литографии была разработана более 10 лет назад — она позволяет создавать схемы на 10 нанометров с потенциальным уменьшением до 2–3 нанометров. Однако проблемы с реализацией заставили рынок перейти на EUV-литографию. Если технология докажет свою состоятельность, это может привести к существенному удешевлению микроэлектроники.
