Снова про нанометры, или что там слышно из Китая⁠⁠

Для лиги лени: Китай осваивает свой процесс deep ultraviolet (DUV) 193 нм/ 7 нм

Пока настоящие патриоты* разбираются, как отличить патч-корд от патча к операционной системе, я увидел две статьи про китайскую микроэлектронику.

09.01.2025 5-7 Nm Possibly The Long-Term Technological Ceiling For China’s Semiconductor Industry – Analysis
23.06.2025 Huawei's latest notebook shows China is still generations behind in chipmaking: Kirin X90 SoC made on two-year-old 7nm N+2 process

Для тех, кто мало читал, что это за такие нанометры, напоминаю ситуацию.
Лет, примерно, 15, назад, физический прогресс в серийном производстве станков для производства кристаллов микросхем (степперов) остановился. Физика, точнее оптика дошли до предельного размера – оптика 193 нм, 38 - 22 нм на элемент. И то, еще вопрос на какой элемент, и как это все считать.
Совершенствование других элементов шло, но именно нанометры стали маркетинговым, а не техническим понятием.
Это хорошо видно в линейке AMSL -
Технология: deep ultraviolet (DUV), источник света: argon fluoride laser - 193 nm
TWINSCAN NXT:1470. wavelength - 193 nm; Resolution – 57 nm
TWINSCAN NXT:2150i. wavelength - 193 nm; Resolution – 38 nm
Технология: Extreme ultraviolet (EUV), источник света – лазер на олове, laser-driven tin (Sn) plasma, производства лазера – Cymer.
Первые поставки прототипов – 2006 год, первая серийная поставка – 2018 год, запуск – 2019 год.
TWINSCAN NXE:3400C. EUV light wavelength - 13.5 nm; Resolution - 13 nm; 7 and 5 nm nodes
TWINSCAN NXE:3600D. EUV light wavelength - 13.5 nm; Resolution - 13 nm; 5 and 3 nm Logic nodes
TWINSCAN NXE:3800E. EUV light wavelength - 13.5 nm; Resolution - 13 nm;  2 nm Logic nodes

TWINSCAN EXE: 5000. EUV light wavelength - 13.5 nm; Resolution - 8 nm; 2 nm Logic node. 185 Wafers per hour at dose: 20 mJ/cm²
TWINSCAN EXE:5200B. EUV light wavelength - 13.5 nm; Resolution - 8 nm; 175 Wafers per hour at dose: 50 mJ/cm²

Что там у Китая?

У Китая в 2023 году случился очередной прорыв, или удар от Европы в спину США – STMicroelectronics, американо-французско-итальянская фирма (Thomson Semiconducteurs of United States/France и SGS Microelettronica of Italy) собрались организовать производство MCU на 40 нм технологии.
STMicroelectronics не новички в бизнесе – их технический процесс (не станки) позволяет производить 180, 130, 90 и 65 нм чипы.
Были бы сами станки – а они есть, SMIC уже делает, в каком-то объеме, линии на DUV, и разрабатывает технологию laser-induced discharge plasma (LDP), которая, может, будет лучше чем laser-produced plasma (LPP) у ASML. Может, не будет.

Но, пока что Huawei в мае 2025 запустил предзаказ на ноутбуки на «целиком своем» процессоре Kirin X90. Производительность «вроде ничего», хотя ценник весьма не гуманный.  

Литература

31.12.2020 Как считают нанометры, как их на самом деле надо считать, и почему не все с этим согласны
05.02.2024 Roses are red, ultraviolets are blue, Samsung and ASML announce High-NA EUV equipment debut
06.02.2024 TSMC unlikely to adopt High-NA EUV for 2nm, A14 processes
04.12.2024 TSMC's N2 process has a major advantage over Intel's 18A: SRAM density
08.03.2025 China Develops Domestic EUV Tool, ASML Monopoly in Trouble
24.04.2025 TSMC's 2nm N2 process node enters production this year, A16 and N2P arriving next year
05.06.2025 TSMC cautious on High NA as ASML unveils its US$400M chipmaking machine
EUV lithography systems
Extreme ultraviolet lithography
5 things you should know about High NA EUV lithography
TWINSCAN: 20 years of lithography innovation

* их определить легко:
Ноль статей по обсуждаемой теме,
Ноль комментариев по теме до того, как они начинают мне пересказывать текст из ссылки в моей статье,
Уровень знаний по теме - отсутствующий, путают Боинг с Теслой, и сервер с системой хранения данных (в зависимости от статьи)
в 100% случаев видят русофобию, в произвольном месте