Китайская 28нм литографическая машина все же будет запущена в массовое производство⁠⁠

Недавно Shanghai Microelectronics(SMEE) заявила, что начнет массовое производство 28-нм иммерсионной литографической машины на основе предыдущей 90-нм литографической машины и поставит первое отечественное оборудование для литографической машины SSA/800-10 Вт в первом квартале 2023 года.

Аппарат представляет собой иммерсионную литографическую машину, в которой используется источник света ArF, то есть источник света с длиной волны 193 нм.

Это литографическая машина четвертого поколения, что также означает, что между Китаем и ASML существует только одно поколение разрыва. Благодаря этому технологическому процессу Shanghai Microelectronics также напрямую превзойдет японских производителей Canon и Nikon и станет вторым в мире гигантом по производству литографических машин после ASML в Нидерландах.

В настоящее время литографическая машина пережила пять поколений развития, от самой ранней длины волны 436, до литографической машины второго поколения, которая начала использовать i-line с длиной волны 365 нм, а третьим поколением был KrF-лазер с длиной волны 248 нм. Четвертое поколение - это лазер DUV с длиной волны 193 нм, который является известным эксимерным лазером ArF.

Локализация производства литографических материалов в Китае растет в невиданных темпах. Например Nanda Optoelectronics теперь может производить фоторезист 7 нм. Конечно, Китай все еще имеет большой разрыв с зарубежными странами в инструментах EDA и дизайне IC.gap.

Чанчуньский институт оптики и механики, Институт технологий оптоэлектроники Академии наук Китая, Шанхайский институт оптики и точной механики Академии наук Китая, Институт микроэлектроники Академии наук Китая, Пекинский технологический институт , Харбинский технологический институт и Хуачжунский научно-технический университет начали исследовательскую работу по проекту «Ключевые технологические исследования экстремальной ультрафиолетовой литографии».

Однако литографическая машина EUV весит 180 тонн, состоит из более чем 100 000 деталей, требует 40 контейнеров для транспортировки, а ее установка и отладка занимает более года. С таким большим количеством деталей это слишком сложно для страны, и в настоящее время страна планирует наладить массовое производство литографических машин EUV до 2035 года.

Можно сказать, что к концу года Shanghai Microelectronics сможет начать массовое производство 28-нм машин для иммерсионной литографии. Это может не только решить проблему ограниченного производства микросхем, разрушить монополию иностранных производителей на рынке литографических машин для ИС, но также удовлетворить более широкий рыночный спрос и способствовать развитию отечественной полупроводниковой промышленности.