Отдельная благодарность Калбазову Дмитрийю Наумовичу, Руководителю Центра Разработки Технологического Оборудования (ЦРТО) ЗНТЦ, именно он организовал и показал, и дал интервью в видео
ЭЛ № ФС 77 - 87272 от 22.04.2024
На видео степпер (установка для засвета при фотолитографии) на 350 нм. Делали на базе белорусских наработок (Планар), но многое переработали и у этого степпера площадь окна засвета в 47 раз больше.
Показали установку на которой отрабатывают процесс. Кроме неё готовятся 2 установки для передачи заказчикам. В планах дорабатывать до 130 нм.
А какие "степперы" за рубежом? Их характеристики? Мы изобрели колесо когда там уже на магнитной подушке гоняют?
многое переработали и у этого степпера площадь окна засвета в 47 раз больше
Я не понимаю показатель "площадь окна засвета", хорошо это или плохо и сильно сомневаюсь, что оно мне нужно ;)
Можно конкретику? Что уже реально производится (350нм) и используется, что в есть в планах. Может быть есть информация о заказчиках: оборонка/быт?
Заказчики пока не называются. Очевидно, что заказчики - это производители чипов, а они уже могут принимать различные заказы. Условно, подойдёт для бытовых приборов и автомобильной электроники. Для сравнения, по 180 нм делается МИК32 Амур, а по 90нм Эльбрус-2СМ.
Размер окна влияет на то, какой участок пластины можно засветить за один раз. Дальше надо сдвигать и засвечивать другой участок. Стыки внутри одного чипа нежелательны.
